System sterowania i zasilania stanowiska procesowego dla
technologii duplex – nakładania warstw przeciwzużyciowych
metodami PAPVD oraz azotowania jarzeniowego.
Stanowisko procesowe do spiekania proszków metodą plazmy
impulsowej PPS (Pulse Plasma Sintering).
Typoszereg zasilaczy dla układów generacji plazmy, w tym do
zasilania:
łukowych źródeł plazmy z układami inicjalizacji
wyładowania
[pobierz
PDF],
